水熱合成反（fǎn）應器（壓力容彈）
水熱合成反應釜（又稱消解罐、消化罐、高壓消解罐、水熱釜、壓力溶彈），應用於氣相、液相、等（děng）離子光譜質譜（ICP–MS）、原子吸收和原子（zǐ）熒光等化學分析方法的樣品前處理，用於食品、地質、冶金、環保、商檢、化（huà）工（gōng）、核工（gōng）等係統，消解農殘、食品、稀土、水產品等（děng）有機物（wù）中Pb、Cu、Zn、Fe、Ga、Rb、Hg等重金（jīn）屬，以及納米材（cái）料、化合物合成、晶體生長等方麵。當高壓反應釜壓力低於6MPa時，采用墊片（piàn）密封,壓（yā）力高於6MPa時采用金屬雙線密封,攪拌采用靜密封強磁力攪拌，可配多種攪拌漿。采用電（diàn）加熱形式,特殊要求可以製（zhì）成（chéng）防爆（bào）加熱器（qì）。
規（guī）格：25ml、50ml、100ml、150ml、200ml、500ml、1000ml
材質（zhì）：1Cr18NI9Ti（可選特殊材料）另可根據用戶需求定做。
壓力：-0.1~3MPa（特殊（shū）要求另議）
操作方法：
溫度：≤160度或者≤250度（dù）（特殊要求另（lìng）議）
內襯（chèn）：聚四氟乙烯（PTFE）或者PFA，耐（nài）強酸（suān）強堿和其他有（yǒu）機（jī）溶劑

當反應物係有腐蝕性時要將其（qí）置（zhì）於四氟襯套內，方可保（bǎo）證釜體不受腐蝕（shí）。將水熱合成（chéng）反應釜置於加熱器內，按照規定（dìng）的升溫速率升溫至所（suǒ）需（xū）反應溫度（小於規定的（de）安全使用溫度）。待反應（yīng）結束將其降溫時，也要嚴格按照規定的降溫速率操作，以利安全和反（fǎn）應釜的（de）使用壽命。當確認腹內溫度低於反（fǎn）應物係種溶劑沸點後方能打開釜蓋進行後續操作。
每次水熱合成反應釜使用後要及（jí）時將其清洗（xǐ）幹淨，以免鏽蝕。
釜體（tǐ）、釜（fǔ）蓋線（xiàn）密封處要格外注意清洗幹淨，並嚴防將其碰傷損（sǔn）壞。

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